SK海力士將升級(jí)中國(guó)半導(dǎo)體工廠:采用第四代10納米工藝
據(jù)了解,韓國(guó)芯片制造巨頭SK海力士正在考慮打破美國(guó)對(duì)華極紫外(EUV)光刻機(jī)出口相關(guān)限制,以提升其在中國(guó)的半導(dǎo)體工廠的技術(shù)水平。
這一舉動(dòng)被視為,隨著半導(dǎo)體市場(chǎng)的復(fù)蘇以及中國(guó)高性能半導(dǎo)體制造能力的提升,一些韓國(guó)芯片企業(yè)正在采取一切可以使用的方法來(lái)提高在華工廠的制造工藝水平。
業(yè)內(nèi)人士透露,SK海力士計(jì)劃今年將其中國(guó)無(wú)錫工廠的部分DRAM生產(chǎn)設(shè)備提升至第四代10納米工藝。然而,對(duì)于“無(wú)錫工廠將進(jìn)行技術(shù)升級(jí)”的消息,SK海力士方面表示“無(wú)法確認(rèn)工廠的具體運(yùn)營(yíng)計(jì)劃”。
據(jù)了解,無(wú)錫工廠是SK海力士的核心生產(chǎn)基地,其產(chǎn)量約占公司DRAM總產(chǎn)量的40%。目前,無(wú)錫工廠正在生產(chǎn)兩款較舊的10納米DRAM。
報(bào)道認(rèn)為,SK海力士對(duì)無(wú)錫工廠進(jìn)行技術(shù)升級(jí)并不容易,因?yàn)樽?019年以來(lái),美國(guó)為阻止中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起,單方面限制了制造尖端半導(dǎo)體必需的EUV光刻機(jī)出口中國(guó)。
盡管如此,隨著全球半導(dǎo)體市場(chǎng)進(jìn)入復(fù)蘇階段,SK海力士認(rèn)為高性能芯片產(chǎn)能擴(kuò)張已經(jīng)刻不容緩,需要10納米級(jí)第四代DRAM或更高版本產(chǎn)品來(lái)維持其市場(chǎng)份額。
媒體分析稱,SK海力士的這一舉動(dòng)反映了全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的變化和中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)復(fù)蘇的背景下,中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的提升無(wú)疑將為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力。
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